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开源证券-中微公司-688012-公司深度报告:半导体设备龙头,国产替代前景可期-210120

上传日期:2021-01-20 10:30:00  研报作者:刘翔,罗通  分享者:binshao   收藏研报

【研究报告内容】


  中微公司(688012)
  公司竞争优势明显,国产替代需求紧迫,给予“买入”评级
  随着半导体行业逐渐回暖,半导体产业向国内转移,存储、Foundry等厂商扩产,提升对上游设备的需求;IC制造工艺升级,刻蚀工艺使用频率及技术要求提升。中微公司技术领先,客户资源优秀,发布定增预案,拟定增100亿元扩产,未来竞争力将进一步加强,前景可期。我们上调公司盈利预测,预计公司2020-2022年归母净利润3.37/4.78/6.84亿元(+0.86/+1.87/+1.32亿元),EPS0.63/0.89/1.28(+0.16/+0.35/+0.25),当前股价对应PE276.3/194.8/136.0倍,上调评级为“买入”。
  刻蚀设备空间巨大,MOCVD设备前景可期
  半导体刻蚀设备全球市场规模2019年达115亿美元,CR3超90%,中国市场规模超180亿元,“新应用+产业转移+工艺进步”使国内刻蚀设备厂商获发展良机。MOCVD设备:中国已成全球MOCVD设备最大的需求市场,保有量占全球比例超过40%。目前MOCVD设备下游应用主要为蓝光LED,随技术的进步,MOCVD设备还有望逐步应用在黄红光LED、深紫外LED,以及MiniLED、MicroLED、功率器件等诸多新兴领域,市场规模会有望进一步扩大。
  公司核心竞争力强大,持续新品开发,未来增长可期
  公司技术积累深厚,部分技术已达国际标准,同时汇聚优秀人才与管理团队,客户资源优秀,持续开发高端新品,未来增长可期:(1)公司刻蚀设备已运用在国际知名客户65nm到7nm生产线;公司已开发出5nm刻蚀设备,并已获得批量订单,正在开发更先进工艺(2)公司CCP设备可应用于3DNAND64层的量产,同时正在开发能够涵盖128层刻蚀以及对应的极高深宽比的刻蚀设备和工艺(3)拓展MOCVD新兴应用领域,深紫外光LED已获领先客户验证成功。用于MiniLED、MicroLED、功率器件等生产的MOCVD设备正在开发中。公司拟定增100亿元扩产,未来竞争力有望进一步提升。
  风险提示:国际贸易摩擦加剧风险、下游客户扩产不及预期的风险、国产化进展缓慢、公司新产品开发验证不及预期。
 报告详细内容请查阅原报告附件
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