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华安证券-微导纳米-688147-专注ALD技术,光伏和半导体双向高成长-230120

上传日期:2023-01-20 18:10:00  研报作者:张帆,徒月婷  分享者:fyf119   收藏研报

【研究报告内容】


  微导纳米(688147)
  主要观点:
  ALD技术领军企业,聚焦光伏与半导体
  公司专注于ALD技术,引领国内ALD技术的发展应用。公司为国内首家将ALD技术规模化应用于光伏领域,也是国内首家成功将量产型High-k原子层沉积设备应用于28nm节点集成电路制造前道生产线的设备公司,并不断在泛半导体领域拓展产品应用外延。2021年度和2022年前三季度公司营收分别为4.28亿元、3.85亿元,归母净利润分别为4,611.37万元、-325.47万元,截至2022年9月末,公司已取得在手订单19.75亿元。公司前期研发投入高,新产品开拓初期的毛利率有一定影响,规模效应有望带来利润加速回升。
  光伏:立足ALD,新型电池技术全面布局
  PERC:公司量产设备镀膜速率突破10,000片/小时,打破制约ALD技术应用于光伏领域的产能限制。2018年、2019年公司PERC电池背钝化设备装机容量市占率分别为41.16%、48.41%。
  TOPCon:(1)ALD设备在TOPCon电池正面氧化铝工艺中,可沉积超薄的、高深宽比的膜层,更适应正面镀钝化膜的复杂形貌,首先取得较高市占率。(2)公司开发的PEALD二合一平台,集成了PEALD和PECVD两种工艺,分别用于制备隧穿层和多晶硅层,有望受益于TOPCon路线持续扩产。
  IBC:由于平台化技术特征,IBC可以和HJT、TOPCon技术结合,电池制备工艺更为多变。其中,ALD设备在钝化层的制备中具有重要地位,且需求量往往更高。
  HJT:公司PECVD技术可以应用于本征非晶硅层沉积,ALD设备也储备用于TCO层沉积。
  钙钛矿:ALD具有衬底温度较低、可精确控制膜厚、大面积生长、薄膜均匀性好、三维保形性好等特点,在TCO等功能层、缓冲层和封装中都具备广泛的应用条件。公司根据下游客户需求进行相应储备。
  半导体:ALD技术中的国产替代先行者
  随着我国半导体设备市场需求量增长及国产化率提升,国产ALD设备市场空间不打断开,带来领先ALD设备公司机会。我们预计2022/2023/2024我国国产ALD设备规模分别为5.21/6.26/9.59亿元,yoy+37.42%/20.15%/53.38%。公司ALD技术在泛半导体的各细分领域深度拓展。在逻辑芯片领域,公司为国产首家突破28nm制程High-k材料沉积技术;在存储芯片领域,公司ALD技术可以用于3DNAND、铁电存储(FeRAM)等先进存储技术领域;在新型显示领域,公司的ALD设备布局OLED/miniLED等领域,不断拓宽应用外延。
  盈利预测、估值及投资评级
  我们预测公司2022-2024年营业收入分别为6.02/16.68/22.15亿元,归母净利润分别为0.31/1.26/2.59亿元,2021-2024年归母净利润CAGR为78%,以当前总股本4.54亿股计算的摊薄EPS为0.07/0.28/0.57元。公司当前股价对2022-2024年预测EPS的PE倍数分别为463/113/55倍,我们选取光伏及半导体领域镀膜设备领军公司作为可比公司,考虑到公司在ALD领域具有领先优势,且在光伏及半导体领域拓展具备较大业绩弹性,首次覆盖给予“增持”评级。
  风险提示
  1)光伏及半导体行业后续扩产不及预期的风险。2)技术迭代带来的创新风险。3)国内市场竞争加剧的风险。4)核心技术人员流失或不足的风险。5)测算市场空间的误差风险。6)研究依据的信息更新不及时,未能充分反映公司最新状况的风险。
 报告详细内容请查阅原报告附件
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